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產(chǎn)品中心材料樣品處理小型蒸鍍儀KT-Z1650PVD高純度金顆粒蒸鍍儀
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高純度金顆粒蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專(zhuān)為科研院所及實(shí)驗(yàn)室用戶群體設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)、金屬粉末等。配有樣品擋板，可手動(dòng)或自動(dòng)開(kāi)/關(guān)擋板，達(dá)到及時(shí)遮擋樣品效果；觸摸屏控制，操作簡(jiǎn)單，更有工藝儲(chǔ)存等功能。采用電子束蒸鍍金膜時(shí),會(huì)有微小的黑色顆粒出現(xiàn)在金膜的表面,這些黑色的顆粒形狀大多不規(guī)則,尺寸集中在100 nm～-1μm之間。
| 品牌 | 鄭科探 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子/電池 |
高純度金顆粒蒸鍍儀
采用電子束蒸鍍金膜時(shí),會(huì)有微小的黑色顆粒出現(xiàn)在金膜的表面,這些黑色的顆粒形狀大多不規(guī)則,尺寸集中在100 nm～-1μm之間,傳統(tǒng)的蒸鍍理論較難解釋這些黑色顆粒的成因。本文嘗試提出液態(tài)金屬表面熱發(fā)射電子引起液面上雜質(zhì)顆粒"放電"的理論來(lái)解釋這一現(xiàn)象。這類(lèi)電暈放電造成顆粒附近溫度*,瞬間將顆粒蒸發(fā)沉積在襯底。通過(guò)改變蒸鍍功率,或保持功率不變,改變電子束斑點(diǎn)形狀、落點(diǎn)位置等一系列實(shí)驗(yàn),驗(yàn)證了理論的合理性。
分別用鎢坩堝和玻璃碳涂層坩堝蒸鍍金膜,采用EDS分析金膜表面黑色顆粒的主要成分.對(duì)比金膜表面黑色顆粒分布的密度;根據(jù)兩種坩堝蒸金膜時(shí)的物理學(xué)特征不同,研究黑色顆粒產(chǎn)生的機(jī)理,解釋碳玻璃涂層坩堝蒸金黑色顆粒較多的原因;并利用玻璃碳坩堝采取不同的工藝條件進(jìn)行對(duì)比試驗(yàn),成功減少了金膜表面的黑色顆粒,為教學(xué)實(shí)驗(yàn)、真空鍍膜工藝和集成電路生產(chǎn)領(lǐng)域蒸鍍高質(zhì)量的金膜提供幫助.
-熱蒸發(fā)源：電阻式熱蒸發(fā)舟，交流電源、坩堝蒸發(fā)；
-
腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇；
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泵：前級(jí)干泵，分子泵；
- Load Lock
樣品傳輸腔室：手動(dòng)或自動(dòng)傳輸，高真空，支持多種樣品襯底(選配)；
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工藝控制：PC/PLC機(jī)制的自動(dòng)控制、數(shù)據(jù)處理、工藝記憶儲(chǔ)存；
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襯底固定：?jiǎn)我r底固定，客戶化襯底固定方式；
- 襯底夾具：加熱，冷卻，偏置，旋轉(zhuǎn)等；
- 保護(hù)樣品：配有樣品擋板，可手動(dòng)或自動(dòng)開(kāi)/關(guān)擋板，達(dá)到及時(shí)遮擋樣品效果；
高純度金顆粒蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術(shù)資料
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
加熱方式 | 數(shù)字式功率調(diào)整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
最大功率 | ≤1200W |
最大輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類(lèi)型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （最大可安裝φ50基底） |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離 | 70-140mm |
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié) | ≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類(lèi)型 | 鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩 |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計(jì)接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
可選配擴(kuò)展 | 機(jī)械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數(shù)顯真空計(jì)（測(cè)量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機(jī)組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
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